鎳鉑合金靶材是一種銀灰色金屬靶材，熔點(diǎn)1400-1650°C；密度18.63克/厘米3；電阻率 29.8 μΩ·cm（20°C）。
鎳鉑合金靶材 制備方法
用鎳和鉑作為原料。原料在坩堝中進(jìn)行高溫熔煉成鎳鉑合金錠；采用真空電子束將鎳鉑合金錠熔煉成高純鎳鉑合金錠；對高純鎳鉑合金錠進(jìn)行徑向熱鍛和退火處理；對高純鎳鉑合金錠進(jìn)行縱向墩粗和退火處理；對高純鎳鉑合金錠進(jìn)行熱軋，冷軋和再結(jié)晶退火處理，形成鎳鉑合金靶坯；對鎳鉑合金靶坯進(jìn)行機(jī)械加工，形成鎳鉑合金靶材。通過高溫熔煉，真空電子束熔煉，徑向熱鍛和退火處理，縱向墩粗和退火處理，熱軋冷軋和再結(jié)晶退火處理等步驟，獲得了成分均勻，純度高，晶粒細(xì)小，氧含量低的鎳鉑合金靶材。這樣的靶材利于獲得厚度均勻，顆粒少的高質(zhì)量的薄膜.
鎳鉑合金靶材應(yīng)用領(lǐng)域
鎳鉑合金靶材廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體工業(yè)。通過磁控濺射，鎳鉑合金靶材在硅器件表面沉積并反應(yīng)生成鎳鉑硅化物薄膜，實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體接觸及互連。
廠房地址：湖南省瀏陽市高新技術(shù)開發(fā)區(qū)永泰路創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)園A4-1棟
郵箱地址：erin@xk-sputteringtarget.com
全國咨詢熱線：
0731-86393472
Copyright ? 2014 www.xk-sputteringtarget.com 長沙鑫康新材料有限公司版權(quán)所有 備案號： 湘ICP備17005295號-2
