鉑金靶材（4N）純度99.99%以上，熔點可達1772度，沸點可達3827度，
鉑靶材制備工藝流程
備料 - 真空感應熔煉 - 退火 - 軋制 - 沖壓 - 金相檢測 - 機加工 - 尺寸檢測 - 清洗 - 檢驗 - 包裝
鉑產品的幾種類型
鉑顆粒純度99.99%，常規尺寸φ3*6mm；量大可定做，用于熱蒸鍍、電子束蒸鍍；
鉑靶材純度99.99%，常規尺寸：φ50*1mm；φ60*3mm；φ76.2*4mm等，尺寸可定做，用于磁控濺射鍍膜
電鏡鉑片，常規尺寸φ57*0.1mm；φ57*0.2mm；φ58*0.1mm；φ58*0.2mm，用于電鏡SEM設備
鉑箔片純度99.99%，常規尺寸100*100*0.2mm等，尺寸可定做
鉑濺射靶的應用
高性能鉑濺射材料可用于薄膜涂層應用，CD-ROM，裝飾，平板顯示器，功能涂層，以及其他光學信息存儲空間行業，汽車玻璃和建筑玻璃等玻璃涂層行業，光通信等。其突出的商業應用是作為車輛中的催化轉化器。鉑在真空下蒸發，用于制造半導體，燃料電池和電池。它也被用作光學涂層的一層。鉑金常見于珠寶和實驗室儀器中。
鉑靶材的其他合金形式
鎳鉑，金鉑合金靶材等。
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