我們還提供其他定制形狀和尺寸的濺射靶材及報價
金濺射靶具有與貴金屬金（Au）相同的性質。黃金是具有光澤的黃色光澤的更美麗的貴金屬之一。它的熔點為1,064°C，密度為19.3 g / cc，在1,132°C時的蒸氣壓為10 -4 Torr，理想的蒸發溫度約為1,400°C。它柔軟，致密，可延展，易延展，并且是熱和電的優良導體。金濺射靶的沉積膜在半導體，傳感器，電池和數據存儲的生產中用作涂層。
金靶材制備工藝流程
備料 - 真空感應熔煉 - 退火 - 軋制 - 沖壓 - 金相檢測 - 機加工 - 尺寸檢測 - 清洗 - 檢驗 - 包裝
金靶材的應用
金濺射靶用于標準掃描電子顯微鏡（SEM）的涂層，它還被用來以薄薄的導電材料層覆蓋樣本。金需要防止在常規的SEM模式下用電子束使樣品帶電以及增加信噪比。其他：薄膜的物理氣相沉積（PVD），激光燒蝕沉積（PLD），用于半導體，顯示器，LED和光伏器件的磁控濺射。
金鍺、金錫合金靶材等。
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