鐵鈷鉭鋯垂直磁記錄材料作為新型的垂直磁記錄材料在今后的高密度記錄中將有廣闊的發展前景。磁記錄材料的記錄形式分為兩種：①縱向磁記錄材料，記錄在磁層表面上的信號磁化方向與記錄材料運動方向一致，如錄音磁帶等。②橫向磁記錄材料，記錄在磁層表面上的信號磁化方向與記錄材料運動方向垂直或接近于垂直，如錄像磁帶等。③垂直磁記錄材料，記錄在磁層表面上的信號磁化方向與記錄材料表面垂直，如磁光盤等。磁記錄材料發展到現在，記錄波長從初的1000μm 縮短到1μm 以下，Hc從102Oe提高到103Oe以上，使用廣泛的材料有氧化物磁粉（主要有Γ-Fe2O3、CrO2和包鈷磁粉）和合金磁粉。 近20年來，主要從以下三個途徑提高材料性能以滿足高密度記錄要求：①尋求提高磁各向異性，如采用超微粒、高軸比的針狀磁粉，CrO2和包鈷磁粉以及Hc>1000Oe的合金磁粉等新材料。②減薄磁層和改進涂布技術，提高Hc，實現高密度記錄。常采用除去氧和省去粘合劑兩種辦法。前者是以金屬粉取代氧化物，后者是做成薄膜。合金薄膜是這兩種方法并用的結果。③從記錄原理和記錄模式上作根本的改進。目前，通用的縱向記錄當密度增高時，所產生的退磁場能使信號減小，并產生垂直分量，通過提高Hc和減薄磁層的方法雖可克服這一缺點，但有一定的限度。因此出現了垂直記錄材料，它所產生的退磁場，隨著密度的增加反而趨向于零。并且垂直記錄不需很高的Hc和很薄的材料。有效地克服了縱向記錄在高密度記錄時的致命弱點。垂直記錄要求材料具有垂直磁層表面的單軸各向異性。1975年以來，日本巖畸俊一研制成功的 Co-Cr垂直膜及以后的Co-Cr和Ni-Fe雙層膜，都是能適應垂直記錄的新型材料。1977年巖畸俊一公布了線密度高達每厘米7.9千位（每英寸20千位）的成果，而硬盤的線密度至今才不過每厘米 5.9千位（每英寸15千位）。日本東芝公司已制造出8.9cm(3.5in）垂直軟磁盤，近還開發了鋇鐵氧體垂直磁化錄像磁帶，所用磁粉為六角板狀鋇鐵氧體超微粒子，記錄密度比普通錄像帶高2倍，特別在短波長記錄方面，其特性比金屬磁帶更為優良。鐵鈷鉭鋯垂直磁記錄材料作為新型的垂直磁記錄材料在今后的高密度記錄中將有廣闊的發展前景。下圖是鐵鈷鉭鋯合金濺射靶材的顯微金相檢測圖片,平均粒徑<50μm。
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我們生產鐵鈷鉭鋯濺射靶材,它大的好處是在物理氣相沉積的過程中，較高的透磁率能使靶材順利濺射，均勻的晶粒獲得顆粒小化的薄膜。下面的表格是3N5的高純鈷鐵鈷合金濺射靶的成分分析證明書。采用的分析方法:1.使用ICP-OES 對金屬元素進行分析；2.使用LECO 進行氣體元素分析；3.使用透磁率測試儀器測試透磁率。
